B+W UV filtr 40,5mm XS-PRO DIGTAL MRC nano

Detailní popis produktu

B+W UV filtr 40,5mm XS-PRO DIGTAL MRC nano. Tento UV filtr blokuje neviditelné UV složky světla z oblohy, které mohou způsobit neostrost snímku a na které mnoho barevných filmů reaguje modrým nádechem. (Tyto filtry by se měly správně nazývat "UV-blokující filtry", neboť existují také filtry pro technické účely, které naopak UV záření propouštějí a blokují všechny ostatní vlnové délky. Mezi fotografy se však už zažil zkrácený název "UV filtr".) UV filtry jsou ideální pro fotografování ve vysokých nadmořských výškách (v horách), u moře a v oblastech s velmi čistým vzduchem. Snímky jsou projasněné a zbavené modrého nádechu. Protože sklo je bezbarvé, podání barev se nemění (kromě odstranění nežádoucího modrého nádechu) a není ani potřeba prodlužovat expozici. UV filtr je díky tomu velmi vhodný jako ochrana čelní čočky objektivu proti prachu, poletujícímu písku, vodní tříšti a podobně a může zůstat trvale nasazen na objektivu. Doporučuje se pro analogovou barevnou a černobílou i digitální fotografii. Vícevrstvý potah - MRC (Multi-Resistant Coating) - s technologií Nano: Potah nano je vnější ochranná vrstva, kterou jsou standardně vybaveny všechny filtry řady XS-Pro Digital MRC. Vlastnost "lotosový jev" využívající nanotechnologii zlepšuje vodoodpudivost, což ještě více usnadňuje a urychluje čištění tohoto filtru. MRC nano disponuje vylepšenou vnější (osmou) vrstvou nad běžným MRC. Potah MRC značky B+W není jen neobyčejně účinný vícevrstvý potah, je také tvrdší než sklo, takže chrání filtr před poškrábáním (například při čištění filtru), a rovněž odpuzuje vodu a nečistoty, čímž je usnadněna údržba filtru. Úchyt: Tento filtr používá náš úchyt XS-Pro Digital, který je obzvláště vhodný pro fotoaparáty DSLR se širokoúhlými a zoom objektivy. Má čelní závit pro příslušenství jako jsou krytky a clony apod. Všechny úchyty XS-Pro Digital jsou mosazné a mají matově černý povrch, aby se zabránilo odleskům. ***** UV filtry: Ultrafialové filtry pohlcují ultrafialové záření a propouštějí všechno viditelné světlo. Potlačují světlo rozptýlené ovzduším - tento rozptyl je tím silnější, čím je vlnová délka kratší. Proto se nám dálky jeví modravé a z téhož důvodu vzniká i modré světlo oblohy. Ultrafialové záření se rozptyluje ještě silněji, avšak zrakem to nemůžeme posoudit, protože toto záření nevidíme. Fotografická vrstva je však zachytí. Na snímku proto vyjdou dálky i obloha nadměrně světlé a vzdálené detaily málo zřetelné. Jiná situace nastává v horách, kde je vzduch čistý a obloha dostatečně tmavá, přestože právě zde je ultrafialové záření velmi silné a s rostoucí nadmořskou výškou ho rychle přibývá. Objektivy fotografických přístrojů nejsou pro ultrafialové záření dostatečně korigovány. Proto se přes ostrý obraz vykreslený světlem překládá neostrý obraz vytvořený ultrafialovým zářením a tím se zhorší výsledná ostrost. Použitím ultrafialového filtru dosáhneme ostrých obrazů i při vysokohorských nadmořských výškách. Na objektivu může být nasazen permanentně a je tak vhodný i jako jeho mechanická ochrana. Faktor filtru je 1.0. MRC vrstvy: Poslední generací vrstvících komor pro výrobu filtrů jsou vysoce rozvinuté high-tech systémy, které pomocí fyzikálních a chemických procesů dosahují vrstev, které jsou podstatně stabilnější a tvrdší než vrstvy zhotovené v konvenčních vrstvících komorách. Prochází-li světlo filtrem, dochází na každém rozhraní „světlo-vzduch“ nebo „vzduch-světlo“ k reflexi, při které se část světla odrazí zpět mimo objektiv. Normální neupravené sklo způsobuje ztrátu světla při odrazu přibližně 2 - 4 %. Navíc také může docházet k odleskům, které se projeví na fotografii. To je způsobeno rozdílnými indexy lomu skla a vzduchu. Tyto vady lze potlačit jedině nanášením tenkých vrstev s různými optickými vlastnostmi na filtr (tzv. vrstvený filtr). Firma B+W u MRC (Multi Resistant Coating) filtrů používá pro toto vakuové vrstvení speciální oxidy kovů značně odolné vůči poškrábání a adhezi. Tloušťka těchto vrstev je v rozsahu 1/4 vlnové délky světla, což je přibližně 100 až 200 nanometrů. Jednotlivá vrstva může redukovat reflexi více než o polovinu. Pro redukci reflexí v celém rozsahu vlnových délek viditelného spektra je potřeba použít více vrstev. Vysoce rozvinutý systém vrstvení je aplikován ve vakuu na obě strany filtru. Vhodnou kombinací pouze několika vrstev může být zůstatková reflexe v celém rozsahu viditelného spektra redukována až na 0,5 %. Vrstva nano: Revoluční vrstva, která kryje sedm antireflexních vrstev MRC. Skvělé optické vlastnosti jsou touto extrémě tvrdou vrstvou chráněny proti poškrábání a princip "lotosového efektu" odpuzuje vlhko a prach.